天準為掩模生產過程中的測量提供高精度、高重復性系統,適用產品包括但不限于COG和PSM。


針對掩模來料測量,天準提供長距離工作物鏡。測量包括掩模版上CD的分布,同時系統提供可見光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于測量最小300nm的特征尺寸,3sigma重復性通常在納米范圍內。

主要特點

Mask CD測量

最大支持14寸掩模以及定制形狀

可配置可見光、紫外光,支持穿透和反射光

SECS/GEM

長期維護成本低,穩定可靠

Spector
主要特點

Mask CD測量

最大支持6寸掩模

可配置可見光、紫外光,支持穿透和反射光

SECS/GEM

長期維護成本低,穩定可靠

MT270UV
主要特點

Mask膜厚,CD測量

可配置可見光、紫外光、紅外光

SECS/GEM

長期維護成本低,穩定可靠

MT2010 VIS/UV
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